JACS:无机纳米材料的直接热致图案化

发布时间:2022-06-27 09:12:37 来源:爱游戏娱乐官网 作者:爱游戏app官方下载

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  图案化功能无机纳米材料是先进制造量子点(QDs)电子器件和光电子器件的重要工艺。这通常主要是通过喷墨打印、微接触打印以及照片和电子束光刻来实现。

  阿贡国家实验室Dmitri V. Talapin研究了一种不同的图案化方法,它利用局部加热,这种加热可以由各种来源产生,如紫外线、可见光和红外线照明,或通过邻近热传递产生。研究人员将这种直接热曝光方法,称为热诱导无机纳米材料图案化(HIPIN),使用具有热不稳定表面配体的胶体纳米材料。设计了几个这样的配体家族,并研究了它们的化学和物理变化与热诱导纳米晶体溶解度的变化有关。

  与使用光化学表面反应的传统光刻相比,HIPIN将直接光学光刻的范围扩展到更长波长的可见光(532 nm)和红外(10.6 μm)辐射,这对于构图光学厚层(例如1.2μm)的吸光纳米材料至关重要。此外,HIPIN可以对由衍射限制的光束尺寸定义的特征进行图案化。

  这种方法可以用于金属、半导体和介电纳米材料的直接图案化。此外,图案化半导体QDs保持了其合成的光致发光量子产率的大部分。

  这项工作揭示了纳米材料热图案化的共性,为利用不同的胶体纳米级构筑块器件提供了一条新的途径。

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